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旋轉(zhuan)靶(ba)材是(shi)磁控(kong)的(de)靶(ba)材。靶(ba)材做成(cheng)圓筒型的(de)，里面裝有(you)靜止不動的(de)磁體，以(yi)慢速轉(zhuan)動。
濺射靶材用于磁控濺射鍍膜(mo)，濺射鍍膜(mo)是一(yi)種(zhong)新型的物理氣相鍍膜(mo)(PVD)方式。
在被濺(jian)射(she)的(de)靶(ba)極(ji)(ji)(ji)(陰極(ji)(ji)(ji))與陽(yang)極(ji)(ji)(ji)之間(jian)加(jia)(jia)一個正交磁場(chang)(chang)(chang)和(he)(he)電(dian)場(chang)(chang)(chang)，在高(gao)真空(kong)室中充入(ru)所需要的(de)惰性氣(qi)體(通常為Ar氣(qi))，在電(dian)場(chang)(chang)(chang)的(de)作(zuo)用下(xia)，Ar氣(qi)電(dian)離(li)成正離(li)子(zi)和(he)(he)電(dian)子(zi)，靶(ba)上(shang)加(jia)(jia)有(you)一定的(de)負高(gao)壓，從靶(ba)極(ji)(ji)(ji)發(fa)出(chu)的(de)電(dian)子(zi)受磁場(chang)(chang)(chang)的(de)作(zuo)用與工作(zuo)氣(qi)體的(de)電(dian)離(li)幾率增大(da)，在陰極(ji)(ji)(ji)附(fu)近(jin)形成高(gao)密度的(de)等離(li)子(zi)體，Ar離(li)子(zi)在洛(luo)侖茲力的(de)作(zuo)用下(xia)加(jia)(jia)速(su)飛(fei)向靶(ba)面，以很高(gao)的(de)速(su)度轟擊(ji)靶(ba)面，使(shi)靶(ba)上(shang)被濺(jian)射(she)出(chu)來的(de)原子(zi)遵循動量轉換原理以較高(gao)的(de)動能脫離(li)靶(ba)面飛(fei)向基片淀(dian)積成膜。
濺射鍍膜(mo)的(de)主要應用(yong)于：平(ping)板顯(xian)示(shi)器、鍍膜(mo)玻璃(li)工業(主要包括建筑玻璃(li)、汽車玻璃(li)、光(guang)學(xue)薄膜(mo)玻璃(li)等)、薄膜(mo)太陽能、表面工程(裝(zhuang)飾(shi)&工具)、（磁(ci)、光(guang)）記錄介質、微(wei)電子(zi)、汽車車燈(deng)、裝(zhuang)飾(shi)鍍膜(mo)等
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